ยี่ห้อ/รุ่น

หน่วยงาน / สถาบัน มหาวิทยาลัยเชียงใหม่

วัตถุประสงค์การใช้งาน 1. การสังเคราะห์ฟิล์มสกัดกั้นก๊าซ (gas barrier film) ที่อุณหภูมิต่ำ 2. การสังเคราะห์ฟิล์มบางชนิดไดอิเล็กทริก (dielectric thin film) เช่น ไฮโดรจีเนส ซิลิกอนไนไตรด์ (SiNx) และอะลูมิเนียมออกไซด์ (AlOx) ที่อุณหภูมิต่ำ 3. การประยุกต์ใช้งานในด้านไมโครอิเล็กทรอนิกส์ (microelectronics)

ประวัติการประยุตก์ใช้ด้านงานวิจัย